本月初，日本新能源产业技术综合开发机构（NEDO）和日立公司刚刚共同宣布了硬盘磁头技术领域的突破，通过使用微波辅助磁记录技术，可望实现每平方英寸3Tb的存储密度。而今，NEDO、日立又联合东京工业大学、京都大学，宣布在磁盘盘片介质领域的新研发成果，可制成每平方英寸3.9Tb密度的硬盘盘片。
东京工业大学、京都大学和日立公司之前曾研发过一种在盘片基板表面设置高分子材料容易聚集的化学标记技术，通过设置整齐的化学标记点阵，形成整齐的存储介质分子排列。而在NEDO加入后，对此技术进行了进一步改进，通过将标记点阵进一步微型化，使用形成周期10nm级的“有机无机混合高分子聚合物”，再加上点阵间插入新标记点的“图形密度高倍化技术”，实现了存储密度的突破。在之前的技术中，使用电子线直接描画（EB）法，可形成周期24nm左右的标记点阵，而新技术则在中间再插入一个标记点，现已制成100平方微米范围内周期12nm间隔的规则标记点阵。而附着其上的高分子聚合物在加入硅原子后，解决了构造不稳定的问题，实现了10nm级的超微细点阵构造。
在这些技术的基础上，新技术相比原有方案的存储密度提升了4倍，达到每平方英寸3.9Tb。而相比目前量产硬盘500Gb/in2左右的密度，新技术存储密度提升达到8倍。未来如果此技术投入商用，3.5寸硬盘容量有望突破10TB，迈向20TB大关。研发团队表示，该技术的更多细节将于本月底在美国举行的材料研究学会2010秋季会议上发表。

不错啊。以后可以有容量更大体积更小的移动存储设备可以使用了。科技改变生活。这句话真的不假

硬盘容量越来越大，可是速度跟不上，将来云计算，还是要被固态硬盘取代。

这么大的容量，网速更得上么？国外早就是G为单位的网速了，国内的破网啊，都不稀说！

我感觉在大容量存储上来讲，固态硬盘短期无法取代传统硬盘，再者其高成本必定限制其发展，远期来看，传统硬盘获得技术突破后，更加会统治大容量存储应用，这个是固态硬盘比不了的。

有这么大硬盘又什么用啊，网络实在太差下载速度实在太慢了！

哈哈 这个消息可太好啦 我的1T的硬盘 不到半年就满了 最近正琢磨 再来个2T的 看来再等等，一下子弄个5T的硬盘 估计才够用！

硬盤除了容量，速到也是考慮之列，希望日後有更快的硬盤出現。

好厉害，每平方英寸3TB，但愿上市后价格不要太贵了！不过话说回来，这么大的硬盘以后用搜索找个文件或进行全盘杀毒会不会很费时？

看来明年的手提的硬盘标配可以上T字头了，果然是日新月异啊